合光掩模

合光光掩模专注半导体上游光掩模研发与制造，填补国内制程光罩空白。核心团队由行业资深专家组成，突破光刻、蚀刻等关键工艺技术，覆盖光罩设计、生产全链条，服务芯片制造领域。产品应用于集成电路、AI芯片等高精尖领域，赋能半导体产业链自主可控。